统计排行幸运大转盘每日签到社区服务会员列表最新帖子精华区博客帮助
主题 : 我国新一代超分辨光刻机通过验收
屈联西离线
2015.1.28跟QY无关
级别: 管理员

UID: 8142
精华: 53
发帖: 102034
财富: 189893969 鼎币
威望: 76 点
贡献值: 467 点
会员币: 2 个
好评度: 5690 点
在线时间: 11233(时)
注册时间: 2010-01-02
最后登录: 2018-12-14
楼主 发表于: 12-02  
0

我国新一代超分辨光刻机通过验收

  来源:《中国科学报》 "| .  +L  
  ■见习记者 高雅丽 记者 彭丽 2+T8Y,g  
  作为集成电路产业中最关键的基础装备之一,光刻机在国内有着巨大的市场潜力,但高端光刻装备一直被国外所垄断,研制出国产化的光刻机一直是中国微纳加工领域几代科学家的“最大梦想”。 &+E'1h10  
  11月29日,中国科学家在实现梦想的路上迈出了关键一步。由中国科学院光电技术研究所(以下简称光电所)承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备,为纳米光学加工提供了全新的解决途径。 Gt\K Ln  
  突破分辨力衍射极限 E1Ru)k{B  
  《科学》杂志曾提出本世纪125个最具挑战性的科学问题,其中第40个问题涉及能否大幅突破衍射极限制造完美光学透镜。 5XSxQG@k^z  
  光学光刻作为主流的光学制造技术,由于衍射极限的限制,这成为光刻机技术发展的主要技术瓶颈,同时导致光学光刻装备成本极高。而另一类电子束、离子束直写技术,虽然分辨率能达到10nm量级,但效率极低,难以用于批量生产器件。 !wLH&X$XT  
  在这项世界性的难题面前,光电所率先实现了突破。光电所所长罗先刚告诉《中国科学报》记者:“2003年光电所在国际上率先发现了异常杨氏双缝干涉现象,揭示了亚波长结构中存在一种超构表面波,其等效波长可以调制到软X射线尺度,为突破衍射极限提供了全新的原理方法和直接的手段。” r 85Xa'hh  
  对于这项超分辨光刻技术的提出,中科院院士周光召曾评价:“这些成果是基础理论和工程应用紧密结合的全链条创新典范,是我国具有原创性、能引起国际引领作用的代表性工作。” .oi}SG  
  在光电所的努力下,中国的光刻机研制跳出了缩小波长、增大数值口径来提高分辨力的老路子,为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了一种全新的技术,也为超分辨光刻装备提供了理论基础。 877EKvsiC  
  验收专家组表示:“项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过了国外高分辨光刻装备技术知识产权壁垒,实现了我国技术源头创新,研制出了拥有自主知识产权、技术自主可控的超分辨光刻装备。该装备是世界上首台分辨力最高(22nm@365nm)超分辨光刻装备。” f_re"d 3u  
  开辟“新”光刻技术和装备 Se^/VVm  
  为什么这台光刻装备采用了新的原理和技术?光电所研究员、项目副总设计师胡松告诉记者,采用传统技术的光刻机不仅受知识产权保护,还有诸多技术壁垒。在没有国外成熟经验可借鉴的情况下,项目成员想要开辟一条新路径。 5UrXVdP  
  2012年,光电所承担了国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目。经过近7年艰苦攻关,项目组突破了高均匀性照明,超分辨光刻镜头,纳米级分辨力检焦及间隙测量,超精密、多自由度工件台及控制等关键技术,完成了装备研制。 1K? & J2  
  这台装备采用365nm波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22nm。对此,胡松打了一个比方:“这相当于我们用很粗的刀,刻出一条很细的线。” #q~3c;ec  
  回忆这7年的攻关时刻,胡松告诉记者,一开始项目成员有些“不相信能做出这台设备”。但随着项目组先后实现了50nm、45nm、32nm超分辨成像光刻结果,大家的信心越来越坚定。 o@<6TlZM  
  “我最激动的时候是去年7、8月份,当时我们做出了10nm×10nm的多场重复曝光,这意味着技术已经逐渐成熟。”胡松说。 "W_jdE6v  
  在此基础上,项目组结合项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,实现了10nm以下特征尺寸图形的加工。该项目目前已获得了授权国内发明专利47项,国外发明专利4项,拥有完全自主知识产权。 RS||KA])J  
  解决产业应用难题 lJ2|jFY9  
  在当前的集成电路生产线上,193nm深紫外光刻机和EUV极紫外光刻机对中国处于封锁状态,而这台超分辨光刻装备,解决了紫外光刻机的机理、装备和工艺问题。“这让我国在高端光刻机技术方面突破封锁,并在逐步实现产业化方面有了从0到1的跨越。”胡松表示。 Kh:#S|   
  现在微纳光刻技术是现代先进制造的重要方向,是信息、材料等诸多领域的核心技术。与此同时,光学超材料、变革性光学等的出现,迫切需要发展专用的微纳制造工具。 }Ll3AR7\  
  面对实际应用需求,项目组通过技术的延伸,解决了多种微纳功能材料和器件的加工难题,并实现了相关器件的制造。 D_yY0rRM  
  例如在生化传感芯片方面,通过超分辨光刻装备制备的纳米传感器件,可以实现对目标分子的高灵敏探测,避免检测过程中的接触污染,在早期癌症诊断技术方面实现突破。 :"<B@Z  
  验收专家表示,利用超分辨光刻装备,项目组为航天科技集团第八研究院、中科院上海微系统与信息技术研究所、电子科技大学、四川大学华西二院、重庆大学等多家单位制备了一系列纳米功能器件,包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等,验证了超分辨光刻装备纳米功能器件加工能力,已达到实用化水平。 PNxVW  
  验收专家一致认为:“这项装备形成了一条全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主知识产权,为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。” 9?g]qy,1)  
评价一下你浏览此帖子的感受

精彩

感动

搞笑

开心

愤怒

无聊

灌水
世界以痛吻我,要我回报以歌。
The world kissed me with the sadness,for singing by me in return.
描述
快速回复

谢谢,别忘了来看看都是谁回帖哦?
验证问题:
正确答案:C
按"Ctrl+Enter"直接提交
上一个下一个